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Quantum dot protective film, quantum dot film using same, and backlight unit

机译:量子点保护膜,使用其的量子点膜和背光单元

摘要

A first quantum dot protective film comprises a first barrier film including a silica deposition layer, and a first diffusion layer. An O/Si ratio of the silica deposition layer is 1.7 or more and 2.0 or less on an atomic ratio basis, and a refractive index of the silica deposition layer is 1.5 or more and 1.7 or less; and a reflectance of the first quantum dot protective film is 10% or more and 20% or less at each of wavelengths of 450 nm, 540 nm and 620 nm, and a transmittance of the first quantum dot protective film is 80% or more and 87% or less at each of wavelengths of 450 nm, 540 nm and 620 nm.
机译:第一量子点保护膜包括具有二氧化硅沉积层的第一阻挡膜和第一扩散层。以原子比计,二氧化硅沉积层的O / Si比为1.7以上且2.0以下,并且二氧化硅沉积层的折射率为1.5以上且1.7以下。第一量子点保护膜在450nm,540nm和620nm的波长下的反射率为10%以上且20%以下,第一量子点保护膜的透射率为80%以上,在450nm,540nm和620nm的每个波长下为87%以下。

著录项

  • 公开/公告号US10571619B2

    专利类型

  • 公开/公告日2020-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TOPPAN PRINTING CO. LTD.;

    申请/专利号US201515109337

  • 申请日2015-07-16

  • 分类号F21V8;B32B27/36;B32B9/04;B32B3;B32B27/06;F21V9;G02B1/10;F21V9/30;G02B1/14;F21V9/32;G02B6;C09K11;B82Y20;G02F1/1335;G02F1/13357;G02F1/1333;B32B7/12;B32B27/08;H01L33/50;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:28:40

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