首页> 中国专利> 量子点保护膜、使用了该量子点保护膜的量子点膜及背光单元

量子点保护膜、使用了该量子点保护膜的量子点膜及背光单元

摘要

第1量子点保护膜具备含有二氧化硅蒸镀层的第1阻隔膜和第1扩散层。二氧化硅蒸镀层的氧与硅的O/Si比以原子比计为1.7以上且2.0以下,二氧化硅蒸镀层的折射率为1.5以上且1.7以下,在波长450nm、波长540nm及波长620nm的所有波长下的第1量子点保护膜的反射率为10%以上且20%以下,并且透射率为80%以上且95%以下。

著录项

  • 公开/公告号CN105793644B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-04-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 凸版印刷株式会社;

    申请/专利号CN201580002854.6

  • 发明设计人 北原吏里;时野谷修;西川健;

    申请日2015-07-16

  • 分类号

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人白丽

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 10:09:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-03

    授权

    授权

  • 2016-08-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):F21S2/00 申请日:20150716

    实质审查的生效

  • 2016-07-20

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号