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FIELD-EFFECT TRANSISTOR, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND RADIO-FREQUENCY DEVICE

机译:场效应晶体管,其制造方法以及射频装置

摘要

There is provided a field-effect transistor including: a gate electrode; a semiconductor layer having a source region and a drain region with the gate electrode in between; contact plugs provided on the source region and the drain region; first metals stacked on the contact plugs; and a low-dielectric constant region provided in a region between the first metals along an in-plane direction of the semiconductor layer and provided at least in a first region below bottom surfaces of the first metals along a stacking direction.
机译:提供了一种场效应晶体管,包括:栅电极;半导体层,其具有源极区域和漏极区域,并且其间具有栅电极。在源区和漏区上提供的接触塞;第一金属堆叠在接触塞上;低介电常数区设置在沿半导体层的面内方向设置在第一金属之间的区域中,并且至少设置在沿堆叠方向设置在第一金属的底面下方的第一区域中。

著录项

  • 公开/公告号US2020118928A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-04-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SONY CORPORATION;

    申请/专利号US201916700703

  • 发明设计人 NAOKI SAKA;DAISAKU OKAMOTO;HIDEKI TANAKA;

    申请日2019-12-02

  • 分类号H01L23/535;H01L29/78;H01L29/66;H01L29/423;H01L29/417;H01L29/06;H01L23/528;H01L23/532;H01L23/522;H01L23/482;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:24:50

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