机译:基于射频模拟电路累积模式器件结构的Si(110)上非常高性能的新型新型平衡完全耗尽绝缘子上互补金属氧化物半导体场效应晶体管的研究
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University, 6-6-10 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan;
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University, 6-6-10 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan;
Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-10 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan;
Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-10 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan;
Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-10 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan;
New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University, 6-6-10 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan WPI Research Center, Tohoku University, 6-6-10 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan;
机译:使用累积模式完全耗尽型绝缘体上硅器件的改进的高性能面向Si(110)的高性能面向金属氧化物半导体场效应晶体管的影响
机译:累积型绝缘体上硅-金属-氧化物-半导体场效应晶体管中电子迁移率的实验研究
机译:用于可靠的深亚微米器件的新型阶梯掺杂全耗尽型绝缘体上硅金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:10nm金属氧化物半导体场效应晶体管的T-FinFET结构周围接触的3D-TCAD模拟研究
机译:电子设备的新平台:N沟道有机场效应晶体管,互补电路和纳米线晶体管。
机译:以纳米MOSFET为基准的碳纳米管场效应晶体管的器件和电路级性能
机译:源极/漏极寄生电阻对超薄体III-V沟道金属氧化物半导体场效应晶体管器件性能的影响