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EUV CLEANING SYSTEMS AND METHODS THEREOF FOR AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

机译:极紫外光的EUV清洁系统及其方法

摘要

Methods and apparatus for in-situ incline cleaning an element disposed in a EUV generating chamber are disclosed. A capillary-based hydrogen radical generator is employed to form hydrogen radicals from hydrogen gas. The capillary-based hydrogen radical generator is resistively heated during operation and is oriented such that hydrogen radicals catalytically generated from the hydrogen gas are directed to a surface of the element to clean the surface.
机译:公开了用于原位倾斜清洁布置在EUV产生室中的元件的方法和设备。使用基于毛细管的氢自由基产生剂以从氢气形成氢自由基。基于毛细管的氢自由基产生器在操作期间被电阻加热,并且被定向为使得从氢气催化产生的氢自由基被引导至元件的表面以清洁表面。

著录项

  • 公开/公告号US2020012202A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-01-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML NETHERLANDS B.V.;

    申请/专利号US201916575068

  • 发明设计人 MARC GUY LANGLOIS;

    申请日2019-09-18

  • 分类号G03F7/20;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:18:47

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