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机译:电极磨损对基于放电的极端紫外光源EUV生成的影响
Fraunhofer Inst Laser Technol Steinbachstr 15 D-52074 Aachen Germany;
Fraunhofer Inst Laser Technol Steinbachstr 15 D-52074 Aachen Germany;
XUV source; pseudospark discharge; gas discharge plasma; EUV lithography; EUV source;
机译:电极磨损对基于放电的极端紫外光源EUV生成的影响
机译:(TMT)(N)(n)簇作为无沥青锡源,用于产生较大紫外线(EUV)光刻中的多电荷锡离子,在激光激光照射下
机译:基于伪火花的放电光源在极紫外光下的发射研究
机译:Xe填充的毛细管Z捏放电光源,用于极紫外(EUV)光刻
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:使用极端紫外(EUV)辐射和EUV诱导的氮等离子体的聚醚醚酮(PEEK)的物理化学表面改性
机译:基于同步加速器的极光紫外(EUV)光刻源 辐射