Z pinch; ultraviolet lithography; xenon; ultraviolet sources; spectroscopic light sources; low-debris Xe-filled discharge system; capillary Z-pinch discharge; EUV lithography; high repetitive; compact system; forced water circulation; magnetic switch; pr;
机译:针孔相机对氙毛细管Z夹EUV光刻光源性能的比较研究
机译:一种新型的快速毛细管放电系统,可发出强烈的EUV辐射EUV光刻的可能来源
机译:用于EUV光刻的气体喷射Z型捏等离子光源的性能
机译:XE填充毛细血管Z-PINCH放电光源,用于极端紫外线(EUV)光刻
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:基于Z-PINCH放电等离子体的EUV源
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。