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填装性能良好的原料硅块在单晶炉或多晶炉中的应用

摘要

本发明涉及一种填装性能良好的原料硅块在单晶炉或多晶炉中的应用,具体方法是将硅粉冷等静压或热等静压成填装性能良好的原料硅块后,放入单晶炉或多晶炉中,用于硅晶体生长的初始原料;本发明涉及的该原料硅块的抗压参数为0.1-50MPa,该原料硅块的纯度为99.99%-99.9999999%。该原料硅块可以在太阳能领域或半导体领域的单晶炉或多晶炉中融熔作为原料硅使用,用于生产晶体硅棒或硅锭;该原料硅块的一个用途是作为生产太阳能电池成品硅片的初始原料用。该填装性能良好的原料硅块有良好抗氧化性能和抗压性能,不容易崩裂、断裂,也不容易从表面脱落硅粉。

著录项

  • 公开/公告号CN101613877B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-07-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江西赛维LDK太阳能高科技有限公司;

    申请/专利号CN200910151827.1

  • 发明设计人 张涛;万跃鹏;钟德京;

    申请日2009-06-23

  • 分类号

  • 代理机构江西省专利事务所;

  • 代理人杨志宇

  • 地址 338000 江西省新余市高新经济开发区赛维工业园

  • 入库时间 2022-08-23 09:10:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C30B29/06 授权公告日:20120718 终止日期:20190623 申请日:20090623

    专利权的终止

  • 2012-07-18

    授权

    授权

  • 2012-07-18

    授权

    授权

  • 2010-04-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B29/06 申请日:20090623

    实质审查的生效

  • 2010-04-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 29/06 申请日:20090623

    实质审查的生效

  • 2009-12-30

    公开

    公开

  • 2009-12-30

    公开

    公开

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