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一种真空气氛下制备高阻区熔硅单晶的加热线圈装置

摘要

本发明公开了一种真空气氛下制备直径40mm以上的高阻区熔硅单晶的加热线圈及其配套装置,其中,一种多匝线圈装置用于真空提纯,另外一种单匝线圈装置用于真空成晶,两种装置配合使用;多匝线圈装置包括上短路环、多匝加热线圈、下短路环,单匝线圈装置包括单匝平板式加热线圈;本专利针对真空环境及大直径两个技术难点,为两个线圈设计了特别的尺寸规格及外形,并增加了有效的辅助配套部件,结果显示,使用该线圈及其配套装置,可以在真空气氛下对较大直径原料进行连续提纯,并将提纯后原料拉制成大直径高阻硅单晶,其质量达到探测器级标准。

著录项

  • 公开/公告号CN101787559B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-07-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 峨嵋半导体材料研究所;

    申请/专利号CN201010300218.0

  • 发明设计人 蒋娜;邓良平;程宇;朱铭;谢江帆;

    申请日2010-01-12

  • 分类号

  • 代理机构成都九鼎天元知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘明芳

  • 地址 614200 四川省峨眉山市符北路88号

  • 入库时间 2022-08-23 09:10:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-07-04

    授权

    授权

  • 2010-09-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 13/00 申请日:20100112

    实质审查的生效

  • 2010-07-28

    公开

    公开

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