一种利用负性光刻胶制作底栅型FED下板图形的方法

摘要

本发明涉及场发射显示器利用负性光刻胶制作底栅型FED下板图形的方法，该方法包括以下步骤：1)制备感光银浆；2)在清洁处理后的阴极玻璃基板(4)上用光刻法制作栅极层(5)图形；3)在栅极层(5)上印刷制作绝缘材料图形，并烧结得到阴极电阻层(6)；4)通过光刻法采用感光银浆制作一层阴极层(7)图形；5)填充一层负性光刻胶(p)；干燥后紫外灯下曝光，显影，即得阴极线条间隙填充图形p；6)利用电泳、印刷、光刻方法制作阴极发射体(8)；7)去除光刻胶(p)，即得完整的底栅型FED下基板结构。该方法得到的基板结构使得栅极表面同阴极表面得到彻底绝缘；解决了栅极和阴极表面短路的问题。