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一种基于倒转粗糙面的GaN基垂直结构发光二极管的制造方法

摘要

本发明公开的一种基于倒转粗糙面的GaN基垂直结构发光二极管的制造方法,采用MOCVD方法在蓝宝石衬底上生长无掺杂GaN材料层,将无掺杂GaN材料层各向异性蚀刻后再继续生长LED外延发光材料,经过蚀刻后,无掺杂GaN材料层底部与蓝宝石之间形成不连续的接合界面,一方面,释放部分的LED外延应力,改善了LED外延晶格质量,提高了内量子效率;另一方面,蓝宝石衬底去除后,其不连续的接合界面自然倒转成为粗糙的出光面,提高了LED器件的取光效率。因此,采用本发明方法制造的GaN基垂直结构发光二极管,具有较高的发光效率,尤其适合于大电流驱动应用。

著录项

  • 公开/公告号CN101661984B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-04-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 厦门市三安光电科技有限公司;

    申请/专利号CN200910018377.9

  • 申请日2009-09-18

  • 分类号H01L33/00(20060101);

  • 代理机构35101 厦门原创专利事务所;

  • 代理人徐东峰

  • 地址 361009 福建省厦门市思明区吕岭路1721-1725号

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-04-04

    授权

    授权

  • 2010-11-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/00 申请日:20090918

    实质审查的生效

  • 2010-03-03

    公开

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