法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-05-23
授权
授权
2010-09-15
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20080820
实质审查的生效
2009-02-25
公开
公开
机译: 用于在半导体生产过程中去除残留聚合物的剥离剂溶液,其用途以及使用该剥离剂溶液去除残留聚合物的方法
机译: 剥离剂组合物,用于去除具有优异溶解度的改性变色光敏抗蚀剂
机译: 含氟-羟基羰基化合物/胺或氨反应的共轭低聚物或聚合物的无氟光阻剥离剂或残渣清除组合物