一种用于表征铁电薄膜光电流的测量方法

摘要

本发明公开了一种用于表征铁电薄膜光电流的测量方法，包括：构建金属/薄膜/金属电容器结构；在电容器结构上施加外加电场，以极化薄膜；撤除外加电场，用光源从薄膜上方照射样品表面，采集记录稳定的光电流的大小；分别记录在不同的极化电压下的光电流大小，绘制成光电流回路；如果光电流回线的纵向对称中心处的电流值为正，则下界面肖特基势垒大于上界面肖特基势垒，为负，则上界面肖特基势垒大于下界面肖特基势垒，等于零，则上下界面肖特基势垒是对称的。本发明通过对光电流的检测，可以确定不同界面的肖特基垫垒和剩余极化对光电流的影响，而不需要采用大型高端设备，从而大大降低了测量成本，适于推广应用。