PSTT10／45多层铁电薄膜的制备与表征

摘要

以LaNiO3(LNO）做缓冲层，在SiO2／Si基底上用射频磁控溅射法制备出具有钙钛矿结构的(PSTT10／45)5多层铁电薄膜(PSTT10，0.9Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.1PbTiO3)和(PSTT45，0.55Pb(Sce0.5Ta0.5)O3-0.45PbTiO3).采用两步快速退火法，对(PSTT10／45)5多层铁电薄膜在700℃退火3次.对薄膜的晶体结构、表面形貌、铁电性、介电性进行了表征.结果表明，(PSTT10／PSTT45)5多层铁电薄膜几乎为纯钙钛矿相，在（100）方向择优取向，表面平整致密，室温下剩余极化2Pr为10.9 μC／cm2，矫顽场2Ec为80kV/cm,5 V下漏电流为24.1 μA／cm2，1 kHz下介电常数为637.9，介电损耗为0.072.