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用于半导体器件应用的免清洗低残留焊锡膏

摘要

本发明涉及一种用于芯片焊接分配或者半导体器件密集点距印刷的免清洗低残留焊锡膏。这种焊锡膏具有均匀的稠度,不存在膏体分离的趋向。最终的剩余残留物是清洁的水晶状的,适宜于在没有预先用溶剂清洁以去除焊剂残渣下实施进一步的加工步骤。这种焊锡膏包含相对少量的松香,并与粘稠的溶剂体系、触变剂、活化剂、添加剂以及任选的增塑剂相组合。溶剂如2,5-二甲基-2,5-己二醇或者异冰片基环己醇在30℃下的粘度为大于10,000cps。这种焊锡膏可以被用于回流焊接。

著录项

  • 公开/公告号CN101484271B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 W·C·贺利氏有限公司;

    申请/专利号CN200780024743.0

  • 发明设计人 盛权;M·托马斯;J·纳赫赖纳;

    申请日2007-06-13

  • 分类号B23K35/36(20060101);B23K35/363(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人程大军

  • 地址 德国哈瑙

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-07-11

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):B23K 35/36 变更前: 变更后: 申请日:20070613

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2011-09-28

    授权

    授权

  • 2009-12-02

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移) 变更前: 变更后: 登记生效日:20091030 申请日:20070613

    专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)

  • 2009-09-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-07-15

    公开

    公开

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