公开/公告号CN101236322B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-07-13
原文格式PDF
申请/专利权人 精工爱普生株式会社;
申请/专利号CN200810009053.4
发明设计人 田坂和夫;
申请日2008-01-30
分类号
代理机构北京市中咨律师事务所;
代理人陈海红
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:07:22
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-03-23
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02F 1/1333 授权公告日:20110713 终止日期:20150130 申请日:20080130
专利权的终止
2011-07-13
授权
授权
2010-02-03
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-08-06
公开
公开
机译: 有源矩阵基板的制造方法,电光装置的制造方法,电子设备的制造方法,有源矩阵基板的制造装置,电光装置的制造装置以及电气设备制造装置
机译: 液体排出装置,液体排出方法,电光装置的制造装置,电光装置的制造方法,电子设备的制造装置以及电子设备的制造方法
机译: 制造装置的制造方法,电光装置的电光装置,电光装置以及电子设备