光掩模制造方法、器件制造方法及光掩模监测方法

摘要

本发明公开光掩模制造方法、器件制造方法及光掩模监测方法。其中在衬底(1)上形成两层或更多层金属层(2，3)，并在这两层或更多层金属层(2，3)中除了最下方金属层(2)之外的一层或多层金属层上形成主图案(5)和监测图案(6)。然后，测量监测图案(6)，并在测量后去除监测图案(6)。之后，在最下方金属层(2)上形成主图案(5)以制成由两层或更多层金属层(2，3)形成的光掩模。