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曝光方法及利用该曝光方法制造用于液晶显示器的薄膜晶体管基片的方法

摘要

本发明提供一种用于提高成品收率的曝光方法及利用该曝光方法制造用于液晶显示器的薄膜晶体管基片的方法。为了提高成品收率,通过掩膜对基片上的层进行光扫描。通过该层的曝光在基片上形成图案。扫描的方向基本上垂直于该图案的长度方向。减小由于图案耦合形成的电容差以及通过绝缘层形成的导电层。因此,减少了显示器的故障并提高了成品率。

著录项

  • 公开/公告号CN1577090B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-03-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN200410032706.2

  • 发明设计人 安顺一;罗柄善;李正荣;宋俞莉;

    申请日2004-04-13

  • 分类号

  • 代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人余刚

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-02-06

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F7/20 变更前: 变更后: 登记生效日:20130107 申请日:20040413

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-02-06

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 登记生效日:20130107 申请日:20040413

    专利申请权、专利权的转移

  • 2011-03-09

    授权

    授权

  • 2011-03-09

    授权

    授权

  • 2006-08-30

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-08-30

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-02-09

    公开

    公开

  • 2005-02-09

    公开

    公开

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