法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-02-22
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 47/00 授权公告日:20101013 终止日期:20151229 申请日:20061229
专利权的终止
2010-10-13
授权
授权
2009-03-04
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-01-14
公开
公开
机译: 使用于光电子半导体本体的光学组件的侧面微影化的方法以及可安装在表面上的光电子半导体本体
机译: 使用软光刻技术制造微影内镜的系统,方法和计算机可访问介质
机译: 使用软光刻技术制造微影内镜的系统,方法和计算机可访问介质