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用于确定半导体晶片制造过程的均匀性度量值的方法和系统

摘要

一种确定半导体晶片制造过程的多个均匀性度量值的系统和方法,包括收集关于一组半导体晶片中的每个半导体晶片的量。对于收集的量的数据进行换算,并且对于收集的、经过换算的量的数据进行主分量分析(PCA),以产生用于第一组半导体晶片的第一组度量值,第一组度量值包括第一负载矩阵和第一记分矩阵。

著录项

  • 公开/公告号CN1623225B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-09-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 兰姆研究有限公司;

    申请/专利号CN03802762.3

  • 申请日2003-09-24

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人龚海军

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-09-08

    授权

    授权

  • 2005-11-30

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-06-01

    公开

    公开

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