一种利用多层金属介质膜结构实现亚波长干涉光刻的方法

摘要

一种利用多层金属介质膜结构实现亚波长干涉光刻的方法，其特征在于以下步骤：(1)首先选择基底材料；(2)在基底表面旋涂抗蚀剂；(3)在抗蚀剂表面交替蒸镀金属材料薄膜和介质材料薄膜，形成交替排布的金属层和介质层；(4)设计周期结构图形掩模并放置于上步骤获得的结构表面；(5)对所得的结构进行曝光；(6)曝光结束后，去除掩模结构；(7)再去除金属层材料和介质层材料；(8)将所得的结构放入与抗蚀剂相匹配的显影液中进行显影；(9)将显影后的结构进行干法刻蚀，将结构传递到基底上去；(10)去除结构表面残留的抗蚀剂，获得最终亚波长周期结构图形；利用上述方法本发明可以实现大面积、均匀的、周期在波长以下的周期结构图形。