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浦东林; 魏国军; 张恒; 陈林森;
苏州大学信息光学工程研究所;
亚波长光学; 干涉光学头; 紫外光刻;
机译:亚微米级和纳米级光刻的双波长光学头的设计
机译:液浸Lloyd镜干涉光刻技术制备亚波长周期纳米结构
机译:使用深紫外干涉光刻技术在亚微米级表面结构化的高效衍射分束器
机译:使用深紫外全息掩模通过液浸干涉曝光对亚波长光刻胶进行构图
机译:研究非晶态三硫化二砷中的银光掺杂机理,以及碲化银-三硫化二砷体系作为无机光刻胶的亚微米光学和深紫外光刻技术的潜力
机译:采用奇数表面等离子体激元模式的大面积深亚波长干涉光刻
机译:用于高对比度的波导模式干涉光刻技术 可见光区域的亚波长结构
机译:利用氦镉紫外多模激光制备亚微米结构光学材料的干涉光刻性能研究
机译:用于产生亚波长晶格的潜在亚波长晶格结构的产生方法,涉及选择干涉图案和功能结构,从而产生周期小于最小波长的晶格结构。
机译:用于光刻光学干涉研究的衍射光学结构的尺度检测方法,包括检测在辐射元件上反射的辐射方向以及在光学装置上的辐射波长
机译:用于反射光学元件,特别是用于软X射线和极紫外波长范围的清洁方法以及用于极紫外光刻设备的清洁方法包括加热反射光学元件
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