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半导体器件中的有效载流子注入

摘要

本发明公开了一种诸如VCSEL、SEL、LED和HBT的半导体器件,制造该器件以具有接近窄能带隙材料的宽能带隙材料。通过位于宽能带隙材料和窄能带隙材料之间的中间结构而改善电子注入。中间结构为变形区,诸如在宽能带隙材料和窄能带隙材料之间的成分变化中的平台。该中间结构被重掺杂并具有所需低电子亲和力的成分。注入结构可在具有高空穴亲和力的p掺杂中间结构的器件的p侧上使用。

著录项

  • 公开/公告号CN101162752B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-06-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 菲尼萨公司;

    申请/专利号CN200710126012.9

  • 发明设计人 拉尔夫·H·约翰逊;

    申请日2007-06-29

  • 分类号

  • 代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:04:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-06-23

    授权

    授权

  • 2008-06-11

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-04-16

    公开

    公开

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