用于掩模修复的电子束处理技术

摘要

通过在刻蚀气体存在情况下将电子束入射到衬底而使镓污染衬底恢复透射率。对于较高的镓注入浓度，透明度可以基本恢复而不减少衬底厚度。对于较低的镓注入剂量，透射率恢复到100％，虽然衬底厚度减少了。本发明适用于光刻掩模的修复。