法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-06-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/08 授权公告日:20100505 终止日期:20160419 申请日:20050419
专利权的终止
2010-05-05
授权
授权
2007-07-25
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-05-30
公开
公开
机译: 制造相移掩模空白的方法,制造相移掩模,相移空白和相移掩模的方法以简单地制造具有所需成分和所需质量的低缺陷相移层的简单相移掩模空白
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