首页> 中国专利> 在单晶硅基片上外延生长制备双层钙钛矿锰氧化物薄膜的方法

在单晶硅基片上外延生长制备双层钙钛矿锰氧化物薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种利用缓冲层,在单晶硅衬底上外延生长制备双层钙钛矿锰氧化物薄膜材料的方法。包括以下步骤:(1)采用溶胶‑凝胶法分别制备实验所需的LaNiO

著录项

  • 公开/公告号CN110581217B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2023.04.18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 河北师范大学;

    申请/专利号CN201910840026.X

  • 发明设计人 赵旭;宋笑龙;彭勃;陈伟;

    申请日2019.09.06

  • 分类号H10N50/01(2023.01);

  • 代理机构石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 13100;

  • 代理人董金国

  • 地址 050024 河北省石家庄市南二环东路20号

  • 入库时间 2023-06-01 21:35:15

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号