公开/公告号CN100587107C
专利类型发明授权
公开/公告日2010-02-03
原文格式PDF
申请/专利号CN200580009301.X
申请日2005-03-22
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人郭思宇
地址 比利时蒙斯
入库时间 2022-08-23 09:03:52
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-05-13
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 授权公告日:20100203 终止日期:20140322 申请日:20050322
专利权的终止
2010-02-03
授权
授权
2007-08-15
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-06-20
公开
公开
机译: 带有预电离的脉冲磁控溅射沉积
机译: 带有预电离的脉冲磁控溅射沉积
机译: 用于通过磁控管的靶涂覆基板的反应磁控溅射,包括:将与磁控管相对的基板布置;通过溅射雾化靶材料;以及将溅射的靶材料沉积到基板上