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带有预电离的脉冲式磁控管溅射沉积

摘要

本发明涉及在装着磁控管阴极(CM)的磁控管反应器(1)中于基片(11a)上沉积至少一种的材料,在脉冲方式下离子化的气体的帮助下通过磁控管阴极雾化所述材料蒸发。为了促进形成持续时间短的高电流脉冲同时避免形成电弧以便能有效地离子化雾化蒸气,在对磁控管阴极(CM)施加主电压脉冲之前预电离气体,从而能生成在主电压脉冲(VP)截止后衰减时间(Td)小于5μs的电流脉冲(CP)。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-05-13

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 授权公告日:20100203 终止日期:20140322 申请日:20050322

    专利权的终止

  • 2010-02-03

    授权

    授权

  • 2007-08-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-06-20

    公开

    公开

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