采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究

摘要

将磁控管方式溅射用于微波ECR等离子体沉积技术。在低气压和低温下沉积了高度C轴取向的ZnO薄膜,其膜的沉积速率比普通ECR溅射中所得到的速率大得多,并且在(h)12cm的膜区域内显示出良好的均匀性。