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磁控管溅射电极与应用磁控管溅射电极的溅射装置

摘要

本发明的内容为:磁控管溅射电极可以使磁铁组装件的磁铁之间产生的管状磁束的轮廓调节变得简单易行。在支撑板上安装中央磁铁和周边磁铁,构成在靶前方形成管状磁束的磁铁组装件。对包含中央磁铁和周边磁铁的支撑板相对两侧进行分割,分割后的中央部分与一块基础板固定在一起,分割下来的分割部分借助可使其相对中间部分作前后、左右以及上下方向移动的位置变更装置安装在的基础板上。

著录项

  • 公开/公告号CN1978698B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社爱发科;

    申请/专利号CN200610160965.2

  • 申请日2006-12-06

  • 分类号C23C14/35(20060101);

  • 代理机构11015 北京英特普罗知识产权代理有限公司;

  • 代理人齐永红

  • 地址 日本国神奈川县

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-11-02

    授权

    授权

  • 2008-12-31

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-06-13

    公开

    公开

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