使用多个掩模步骤减小临界尺寸的方法

摘要

提供了一种用于在蚀刻层中形成特征的方法。在该蚀刻层上形成第一掩模，其中该第一掩模定义具有宽度的多个间隔。在该第一掩模上形成侧壁层。通过该侧壁层在该蚀刻层中蚀刻成特征，其中所述特征具有比由该第一掩模定义的间隔的宽度小的宽度。移除该掩模和侧壁层。在该蚀刻层上形成附加掩模，其中该附加掩模定义具有宽度的多个间隔。在该附加掩模上形成侧壁层。通过该侧壁层在该蚀刻层中蚀刻成特征，其中该特征的宽度小于由该第一掩模定义的间隔的宽度。移除该掩模和侧壁层。