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电子束曝光过程样片步进定位误差动态补偿系统

摘要

电子束曝光过程样片步进定位误差动态补偿系统,包括CPLD逻辑电路模块(1)、X方向高速光电隔离模块(2)、Y方向高速光电隔离模块(3)、X方向16位高速高精度数模转换模块(4)、Y方向16位高速高精度数模转换模块(5)、X方向输出极性控制模块(6)、Y方向输出极性控制模块(7)、X方向衰减匹配器(8)、Y方向衰减匹配器(9)。电子束曝光过程中样片X方向位置误差信号和Y方向位置误差信号分别通过独立的16位数据线与CPLD逻辑电路模块(1)连接,经过运算和转化,最终在输出端口上得到X方向和Y方向的偏转电压信号。此信号导入到电子束曝光机的偏转线圈控制电路,控制电子束曝光机的聚焦电子束的扫描位置实现对样片步进误差的动态补偿。

著录项

  • 公开/公告号CN100541333C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-09-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院电工研究所;

    申请/专利号CN200510012023.5

  • 发明设计人 方光荣;殷伯华;靳鹏云;彭开武;

    申请日2005-06-28

  • 分类号

  • 代理机构北京科迪生专利代理有限责任公司;

  • 代理人关玲

  • 地址 100080 北京市海淀区中关村北二条6号

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-08-21

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20090916 终止日期:20120628 申请日:20050628

    专利权的终止

  • 2009-09-16

    授权

    授权

  • 2008-05-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-01-03

    公开

    公开

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