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减少堆垛层错成核位置的光刻方法和具有减少的堆垛层错位置的结构

摘要

通过在具有朝向结晶方向的离轴取向的碳化硅衬底的表面上形成若干特征可制作外延碳化硅层。所述的特征包括取向不平行于即倾斜或垂直于结晶方向的至少一个侧壁。接着,在其中包括所述特征的碳化硅衬底的表面上生长外延碳化硅层。

著录项

  • 公开/公告号CN100533663C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-08-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 克里公司;

    申请/专利号CN200580008637.4

  • 发明设计人 C·哈林;H·伦登曼;

    申请日2005-02-14

  • 分类号H01L21/04(20060101);H01L21/20(20060101);H01L21/205(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人杨凯;梁永

  • 地址 美国北卡罗来纳州

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-08-26

    授权

    授权

  • 2007-05-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-03-21

    公开

    公开

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