公开/公告号CN100517070C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-07-22
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML控股股份有限公司;
申请/专利号CN200410047667.3
申请日2004-05-28
分类号G03F7/20(20060101);H01L21/00(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王波波
地址 荷兰费尔德霍芬
入库时间 2022-08-23 09:02:55
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-05-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20090722 终止日期:20180528 申请日:20040528
专利权的终止
2009-07-22
授权
授权
2009-07-22
授权
授权
2005-10-05
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-10-05
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-02-02
公开
公开
2005-02-02
公开
公开
查看全部
机译: 使用空间光调制器的无缝,无掩模光刻系统
机译: 使用空间光调制器的无掩模光刻
机译: 使用空间光调制器的无掩模光刻