法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-04-10
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 33/00 授权公告日:20090902 终止日期:20120229 申请日:20080229
专利权的终止
2009-09-02
授权
授权
2008-10-15
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-08-20
公开
公开
机译: 基于合金成分源和碲源共蒸发的铋碲化物基热电薄膜的制备方法及采用相同方法制备的热电薄膜
机译: III族氮化物半导体生长衬底,III族氮化物半导体外延衬底,III族氮化物半导体器件和III族氮化物半导体自支撑衬底及其制备方法
机译: 防止和保护大气和碲源的电磁和静电荷的装置(由Google Translate进行的机器翻译,无法律约束力)