对0相位区域附加并行线以增强透明电场相移位掩模的方法

摘要

一种将边界区域添加至界定有多边形0相位图案的平行边缘外侧的方法。该方法可降低光学距离校正(Optical Proximity Correction，OPC)需求，并改善集成电路的制造与图案化制造过程窗口。该方法亦可同时设置0相位与180相位的多边形宽度至特定尺寸，俾使光学距离校正易于分配。