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形成电介质膜的方法以及使用该电介质膜的等离子显示板

摘要

在形成电介质膜的方法以及利用该电介质膜的等离子显示板(PDP)中,将糊剂涂覆在基底上形成电介质膜,电介质膜末端部分的侧表面具有相对于基底表面在30至80度范围的接触角。该PDP优选包括:第一基底和第二基底,它们互相面对并形成放电空间;布置在第一基底上的多对维持电极;以及布置在第二基底上的多个寻址电极。将至少一个电介质膜优选布置在第一基底和第二基底之间,并且该电介质膜末端部分的侧面优选具有相对于第一基底在30至80度范围内的接触角。

著录项

  • 公开/公告号CN100521035C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-07-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星SDI株式会社;

    申请/专利号CN200410095973.4

  • 发明设计人 权泰正;

    申请日2004-10-29

  • 分类号H01J9/02(20060101);H01J17/04(20060101);H01J17/49(20060101);H01J11/02(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人廖凌玲;杨松龄

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-12-16

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 9/02 授权公告日:20090729 终止日期:20141029 申请日:20041029

    专利权的终止

  • 2009-07-29

    授权

    授权

  • 2006-12-06

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-06-22

    公开

    公开

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