法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-05-13
授权
授权
2006-01-04
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-11-02
公开
公开
机译: 为了制造化学机械研磨用水型分散元件,以及上述分散元件而使用该套件和上述套件的化学机械研磨用水型分散元件的制造方法以及半导体装置的化学机械研磨方法
机译: 化学机械研磨用水型分散元件及其制造方法,用于制造化学机械研磨用水型分散元件的套件以及半导体装置的化学机械研磨方法
机译: 电光显示装置用基板的制造方法所具备的用于研磨由铜或铜合金构成的配线层的化学机械研磨用水分散液以及该化学机械研磨用水分散液的化学机械研磨方法