公开/公告号CN108780672B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-03-01
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社钟化;
申请/专利号CN201780013388.0
申请日2017-04-20
分类号G21K5/08(20060101);C01B32/205(20060101);C01B32/21(20060101);G21G1/10(20060101);G21G4/08(20060101);
代理机构11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘新宇;李茂家
地址 日本大阪府
入库时间 2022-08-23 13:11:39
机译: 用于制造放射性同位素的支撑基板,用于制造放射性同位素的靶板以及用于制造支撑基板的方法
机译: 用于制造放射性同位素的支撑基板,用于制造放射性同位素的靶板以及用于制造支撑基板的方法
机译: 带支撑基板的电解质膜的制造方法,带支撑基板的电解质膜的制造装置,使用带支撑基板的电解质膜的催化剂层-电解质膜层叠体的制造方法以及带支撑基板的电解质膜-催化剂层-电解质膜层叠体的制造装置