降低导电层与掩模层间应力的方法以及制造栅极的方法

摘要

一种降低导电层与掩模层间的应力的方法，包含于该导电层上方形成该掩模层之前，进行一含氮气体的等离子体处理以改质一导电层与一掩模层接触的表面的步骤。该方法可用于栅极的制造，此栅极制造方法包含下列步骤：提供一衬底；以及于衬底上依序沉积一氧化层、一导电层、及一掩模层，以形成一栅极堆叠结构。其中，于沉积掩模层之前，进行一含氮的气体的等离子体处理以改质导电层表面。本发明还提供一种制造栅极的方法。