公开/公告号CN110752296B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-25
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院化学研究所;
申请/专利号CN201911153305.5
申请日2019-11-22
分类号H01L51/10(20060101);H01L51/40(20060101);
代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;
代理人王春霞
地址 100190 北京市海淀区中关村北一街2号
入库时间 2022-08-23 13:10:08
机译: 使用凹入栅电极和高剂量漏极注入在集成电路结构中的MOS器件的沟道区和重掺杂源极/漏极接触区之间形成梯度掺杂轮廓区
机译: 能够减小氧化物半导体层与源极电极层或漏极电极层之间的接触电阻的半导体器件及其制造方法
机译: MOSFET的漏极区形成在两个栅电极之间,体接触区和源极区形成在双阱区中