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溶液法制备OFET中顶接触源漏电极的方法

摘要

本发明公开了一种溶液法制备OFET中顶接触源漏电极的方法。所述方法包括如下步骤:在OFET的半导体层表面制备亲疏水图案;然后利用银镜反应即在所述亲疏水图案上构筑源漏电极;构筑所述源漏电极的步骤如下:将葡萄糖溶液与银氨溶液的混合液滴加至所述亲疏水图案上,在所述亲疏水图案的亲水区得到银,即为所述源漏电极。本发明方法制备的银电极(源漏电极)可用于制备有机电子器件,如所述有机电子器件为OFET、反相器或振荡器等。

著录项

  • 公开/公告号CN110752296B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院化学研究所;

    申请/专利号CN201911153305.5

  • 发明设计人 江浪;张茜;

    申请日2019-11-22

  • 分类号H01L51/10(20060101);H01L51/40(20060101);

  • 代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人王春霞

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村北一街2号

  • 入库时间 2022-08-23 13:10:08

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