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氮掺杂p型透明导电BeZnOS薄膜及其制备方法和应用

摘要

本发明提供了一种氮掺杂p型透明导电BeZnOS薄膜及其制备方法和应用,该制备方法,包括:制备BeZnOS陶瓷靶材;提供衬底,将衬底置于脉冲激光沉积系统真空腔体中,向真空腔体中通入一氧化氮气体,利用BeZnOS陶瓷靶材,采用脉冲激光烧蚀沉积的方法在衬底上进行氮掺杂的BeZnOS薄膜的生长;将得到的氮掺杂的BeZnOS薄膜于温度为400~750℃下退火,即得氮掺杂p型透明导电BeZnOS薄膜。本发明的制备方法,在ZnO中掺入Be和S形成BeZnOS合金可以连续调节其能带结构和电子结构同时又能保持ZnO的六方结构,更稳定的Be‑N键和更高的价带顶可以降低No的能级,提高No的稳定性。

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