首页> 中国专利> 一种超快激光直写配合激光抛光制备中阶梯光栅的方法

一种超快激光直写配合激光抛光制备中阶梯光栅的方法

摘要

本发明公开了一种超快激光直写配合激光抛光制备中阶梯光栅的方法,涉及激光加工领域,包括通过超快激光直写制备中阶梯光栅,使用超快激光对中阶梯光栅表面进行抛光;其中,中阶梯光栅包括数个依次连接的三角形槽。利用超快激光加工精度高、热影响区小的优点,在材料表面直写中阶梯光栅粗胚,光栅粗胚槽表面质量差,而超快激光抛光技术能够对中阶梯表面质量进行改善,降低表面粗糙度,提高中阶梯光栅的质量。

著录项

  • 公开/公告号CN111299840B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江苏大学;

    申请/专利号CN202010124067.1

  • 申请日2020-02-27

  • 分类号B23K26/352(20140101);B23K26/60(20140101);B23K26/70(20140101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 212013 江苏省镇江市京口区学府路301号

  • 入库时间 2022-08-23 13:07:02

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号