退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN110431488B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-28
原文格式PDF
申请/专利权人 科磊股份有限公司;
申请/专利号CN201880017435.3
发明设计人 R·海恩斯;F·基莱塞;M·普里尔;
申请日2018-02-03
分类号G03F9/00(20060101);G03F7/20(20060101);
代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人刘丽楠
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 13:03:04
机译: 多列间距,用于光掩模和掩模版检查以及晶圆印刷检查验证
机译:用掩模版上的金刚石膜替换光罩(光罩)后,热膨胀引起的线宽不稳定分析的改进
机译:Selete的EULE掩模掩模缺陷减少技术扩展到EUVL掩模的光掩模缺陷检查和修复技术即使掩模尺寸为100 nm,也可以实现高精度的检查图像对比度
机译:杜邦光掩模公司向肖特出售光罩。
机译:集成的光掩模缺陷可印刷性检查,掩模修复和修复验证程序,适用于45nm节点及以后的相移掩模
机译:激光诱导氧化锌合金薄膜,用于直接写入灰度光掩模
机译:乳房X光检查超声检查和磁共振乳房X光检查的书面报告比较用于术前评估乳腺病变特别是磁共振乳房X光检查
机译:用于自动IC光掩模检查系统的实验评估的测试掩模
机译:用于自动IC光掩模检测系统的实验评估的测试掩模。