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用于光掩模及光罩检验以及晶片印刷检查验证的多列间隔

摘要

本发明揭示一种用于扫描电子显微镜SEM系统的多列组合件。所述多列组合件包含布置成以一或多个间隔界定的阵列的多个电子光学列。每一电子光学列包含一或多个电子光学元件。所述多个电子光学列经配置以表征固定于载台上的样本的表面上的一或多个场区。所述多个电子光学列中的电子光学列的数目等于所述一或多个场区中的一场区中的检验区的整数数目。所述多个电子光学列的所述一或多个间隔对应于所述检验区的一或多个尺寸。

著录项

  • 公开/公告号CN110431488A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 科磊股份有限公司;

    申请/专利号CN201880017435.3

  • 发明设计人 R·海恩斯;F·基莱塞;M·普里尔;

    申请日2018-02-03

  • 分类号

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人刘丽楠

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2024-02-19 15:35:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F9/00 申请日:20180203

    实质审查的生效

  • 2019-11-08

    公开

    公开

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