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公开/公告号CN110100174B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-18
原文格式PDF
申请/专利权人 科磊股份有限公司;
申请/专利号CN201780064586.X
发明设计人 陈博学;A·韦尔德曼;A·库兹涅佐夫;A·舒杰葛洛夫;
申请日2017-10-19
分类号G01N21/95(20060101);G01N21/88(20060101);
代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人刘丽楠
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2022-08-23 13:01:32
机译: 晶片样品表征系统,用于测量例如图案化或未图案化的晶圆和晶圆图案的应力具有相干光源,该光源会产生朝向样品的光束,检测系统会接收反射的光束图案
机译: 用于图案化晶片的特征的混合指标
机译: 用于图案化晶片测量的混合相位展开系统和方法
机译:通过金属盐和聚合物溶液混合物的近场静电纺丝通过近场静电纺丝的SiO2晶片的平行图案化
机译:SRFE_(12)O_(19)纳米血小板的合成和无粘合剂组装用于磁性部件的晶片级图案化
机译:侧壁图案 - 一种新的晶片级法,用于垂直硅结构的精确图案化
机译:用于在图案化晶片上的高级CMP工艺用作晶片,模具和模具间接关节技术的雾霾
机译:使用晶片融合技术将定向图案化的砷化镓和磷化镓模板用于倍频应用。
机译:分层激光图案化的银/氧化石墨烯用于爆炸检测的混合式SERS传感器
机译:使用蒸汽饱和将纳米金属氧化物特征的晶片级选择性区域沉积在图案化聚(甲基丙烯酸甲酯)模板中
机译:来自吸附混合物的图案化催化剂薄膜的紫外(紫外)激光光沉积