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用于多层铜和钼的蚀刻溶液及使用该蚀刻溶液的蚀刻方法

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一种用于多层铜和钼的蚀刻溶液，包含：约5%重量至约30%重量的过氧化氢；约0.5%重量至约5%重量的有机酸；约0.2%重量至约5%重量的磷酸盐；约0.2%重量至约5%重量的含氮的第一添加剂；约0.2%重量至约5%重量的含氮的第二添加剂；约0.01%重量至约1.0%重量的含氟化合物；以及使蚀刻溶液的总量为100%的去离子水。

著录项

公开/公告号CN100494499C

专利类型发明授权
公开/公告日2009-06-03

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申请/专利权人乐金显示有限公司;
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申请/专利号CN200310118526.1
发明设计人金圣秀;崔容硕;曹奎哲;蔡基成;权五南;李坰默;黄龙燮;李承庸;
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申请日2003-12-12
分类号C23F1/18(20060101);C23F1/26(20060101);H01L21/28(20060101);H01L21/306(20060101);H01L21/44(20060101);H01L21/465(20060101);
代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国;陈红
地址韩国首尔
入库时间 2022-08-23 09:02:09

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2009-06-03

授权

授权
2006-02-01

实质审查的生效

实质审查的生效
2004-07-07

公开

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