...
机译:氟基湿法蚀刻溶液和洗涤溶液:CMP洗涤溶液,SiO_2 / SIN高选择蚀刻剂
ステラケミファ㈱開発部;
ステラケミファ㈱開発部;
机译:氟基湿法蚀刻液/清洗液:CMP后清洗液/ SiO_2 / SiN高选择性蚀刻液
机译:Weha清洁用于太阳能电池的化学药品和用于湿法蚀刻的化学药品:建议对全球环境友好的单晶硅采用无IPA工艺
机译:用于太阳能电池和湿法蚀刻的天气清洗化学溶液:IPA自由工艺的建议单晶硅友好的全球环境芯片
机译:使用HF-HNO_3蚀刻液的石墨烯辅助硅蚀刻
机译:氟18标记的氟苯丙氨酸在正电子发射断层显像中的基础研究
机译:Shohyo Equan Kenji Cho工业设计Doug Sekai No Genkeito Mirai Nippon Hoso Suppan Kyokai NHK图书1974年5月Toyoguchi Kyocho Cho No SD Sekai Kashima Kenkyujou Suppan