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【24h】

フッ素系ウエットエッチング液·洗浄液:ポストCMP洗浄液·SiO_2/SiN高選択エッチング液

机译:氟基湿法蚀刻溶液和洗涤溶液:CMP洗涤溶液,SiO_2 / SIN高选择蚀刻剂

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摘要

先端デバイスの技術革新は常に「新材料に対応する製品」「従来とは異なる要求仕様の薬品」を要求する。本稿では最近要望される機会が多くなっている「ポストCMP洗浄液」「SiO_2/SiN高選択エッチング液」について紹介する。
机译:尖端设备的技术创新总是要求“与新材料相对应的产品”和“不同于传统要求的药物”。 在本文中,我们介绍了“CMP清洁解决方案”和“SIO_2 / SIN高选择蚀刻解决方案”,最近有许多机会。

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