氮化物垫片蚀刻工艺的方法及蚀刻终点侦测系统

摘要

本发明是提供一种栅极结构的垫片的制造方法。此方法实施利用第一蚀刻剂气体的第一蚀刻操作。此第一蚀刻操作被设置为利用干涉量测终点(IEP，Interferometry Endpoint)侦测法来检测具有一特定厚度之垫片层的一部分从基板表面上去除的状况，如此留下一垫片薄层。此方法还包含实施利用第二蚀刻剂气体并持续一预定时间的第二蚀刻操作。此第二蚀刻操作被设置为去除垫片薄层而留下栅极结构的垫片。