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堆叠差异的确定和使用堆叠差异的校正

摘要

一种方法,包括:获得使用图案化工艺处理的衬底上的量测目标的测量,该测量是使用测量辐射获得的;以及从测量导出图案化工艺的感兴趣参数,其中感兴趣参数由堆叠差异参数校正,堆叠差异参数表示目标的相邻周期性结构之间或量测目标与衬底上的另一相邻目标之间的物理配置中的非设计差异。

著录项

  • 公开/公告号CN109073992B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201780025162.2

  • 发明设计人 A·J·登博夫;K·布哈塔查里亚;

    申请日2017-03-28

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华;吕世磊

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2022-08-23 12:33:33

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