包括改善了等离子体处理垂直度的聚焦环的等离子体处理装置

摘要

本发明涉及一种包括改善了等离子体处理垂直度的聚焦环的等离子体处理装置，包括：腔室，其构成利用等离子体处理基板的区域；卡盘，其以在上部安放所述基板的方式位于所述腔室；第一部分，其以安放所述基板的方式形成于卡盘的内侧；第二部分，其以低于所述第一部分的高度形成于所述卡盘的外侧；以及聚焦环，其覆盖所述第二部分，并以使所述第一部分的内侧露出的方式覆盖所述第二部分的外侧，所述聚焦环包括：第一主体部，其与所述第二部分的上面相接；以及第二主体部，其在所述第一主体部的内侧构成台阶地形成而与所述第一部分的上面相接。